電離層參數(shù)日變化對短波天波傳播距離的影響

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摘要：為研究電離層參數(shù)的日變化規(guī)律對短波天波傳播距離的影響，采用IRI模型對電離層參數(shù)一天內(nèi)的變化進(jìn)行仿真計(jì)算和特性分析，并利用射線追蹤技術(shù)進(jìn)行了不同電子濃度廓線環(huán)境下的天波射線軌跡計(jì)算，分析了射線單跳距離的日變化特性。統(tǒng)計(jì)分析表明：電離層電子濃度廓線在一天內(nèi)會隨著日出、日落表現(xiàn)出現(xiàn)明顯變化。其中，從拂曉時(shí)分到下午的時(shí)間段內(nèi)，對短波天波影響最大的F層最大電子濃度范圍可從約4×1011個(gè)/m3達(dá)到2.4×1012個(gè)/m3，臨界頻率從6MHz達(dá)到14MHz左右，而F層的峰值高度在中午達(dá)到最高可至約410m，早晨最低至250m左右。（剩余3237字）