光刻-刻蝕虛擬仿真實(shí)驗(yàn)的設(shè)計(jì)與實(shí)施

［摘 要］ 對(duì)焦國家中國芯開發(fā)戰(zhàn)略，自主設(shè)計(jì)開發(fā)光刻-刻蝕虛擬仿真實(shí)驗(yàn)。實(shí)驗(yàn)以芯片生產(chǎn)過程中的光刻-刻蝕工藝作為代表，通過虛擬仿真技術(shù)進(jìn)行設(shè)備建模、光路模擬、微觀粒子運(yùn)動(dòng)演示等，將無法觸及的設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu)、復(fù)雜的光刻-刻蝕工藝影響、轉(zhuǎn)瞬即逝的微觀實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象直觀化展示給實(shí)驗(yàn)者，利用“練習(xí)模式”和“考試模式”讓實(shí)驗(yàn)者充分開展實(shí)驗(yàn)探索，通過不同模擬情境激發(fā)學(xué)生學(xué)習(xí)興趣。（剩余7063字）