注冊帳號丨忘記密碼?
1.點擊網(wǎng)站首頁右上角的“充值”按鈕可以為您的帳號充值
2.可選擇不同檔位的充值金額,充值后按篇按本計費
3.充值成功后即可購買網(wǎng)站上的任意文章或雜志的電子版
4.購買后文章、雜志可在個人中心的訂閱/零買找到
5.登陸后可閱讀免費專區(qū)的精彩內(nèi)容
打開文本圖片集
摘 要:氣膜冷卻是渦輪葉片的一種重要冷卻手段。為了研究渦輪葉片的間隙泄漏對氣膜冷卻的影響機制與規(guī)律,采用GE-E3高壓渦輪葉片開展PIV光學(xué)試驗測量和非定常數(shù)值計算研究。分析不同氣膜孔位置、雷諾數(shù)、吹風(fēng)比等主要參數(shù)對氣膜冷卻流動的影響規(guī)律,發(fā)現(xiàn)間隙泄漏流干涉下不同位置氣膜孔射流的流場效果差別較大;主流雷諾數(shù)在一定范圍內(nèi)對氣膜孔射流的影響較??;吹風(fēng)比的變化顯著改變了氣膜孔射流的橫向發(fā)展和葉頂氣膜孔射流的強度,使吸力側(cè)泄漏渦存在遠離葉片表面的趨勢,同時一定程度上抑制了壓力側(cè)的泄漏流發(fā)展。(剩余6226字)
登錄龍源期刊網(wǎng)
購買文章
渦輪葉片間隙泄漏流干涉下氣膜冷卻的流動試驗及數(shù)值模擬
文章價格:5.00元
當(dāng)前余額:100.00
閱讀
您目前是文章會員,閱讀數(shù)共:0篇
剩余閱讀數(shù):0篇
閱讀有效期:0001-1-1 0:00:00
違法和不良信息舉報電話:400-106-1235
舉報郵箱:longyuandom@163.com