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金剛石顆粒表面鎳鍍層化學改性研究

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摘要  為消除金剛線生產過程中分散劑對工藝的負面影響,探索新的金剛線鍍鎳工藝。首先,使用H2O2對鍍鎳金剛石顆粒表面進行羥基化;然后,將其同二甲基十八烷基[3-(三甲氧基硅)丙基]氯化銨進行反應,制備表面帶正電的金剛石顆粒;最后,對金剛線的制備工藝進行優(yōu)化。研究結果表明:反應后金剛石顆粒的表面電位從?7.50 mV轉變至14.10 mV以上,最高可達30.68 mV。(剩余5551字)

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