透明金屬薄膜在電磁屏蔽中的應(yīng)用

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摘 要 由于電磁輻射導(dǎo)致電子技術(shù)領(lǐng)域的信息安全問(wèn)題備受關(guān)注，尋找降低電子設(shè)備運(yùn)行時(shí)伴隨的輻射的方法，是亟待解決的技術(shù)問(wèn)題之一，本文對(duì)真空沉積法制備的透明金屬薄膜在電子元器件顯示器屏幕上的電磁屏蔽效能進(jìn)行了理論分析與試驗(yàn)驗(yàn)證，討論了金屬薄膜材質(zhì)及單層與多層金屬薄膜網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)對(duì)電磁屏蔽效能的影響，通過(guò)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)分析可知，由具有高導(dǎo)磁率和低電阻率的金屬制成的給定厚度的單層金屬薄膜屏蔽層具有最大的磁場(chǎng)屏蔽效能，即電子結(jié)構(gòu)元件屏蔽涂層的最佳選擇是厚度為 30-50μm 的單層鋁膜。（剩余6708字）