大印學(xué)（3）——“篆刻學(xué)”學(xué)科建設(shè)與發(fā)展研討會(huì)圓滿落幕

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11月3日至4日，西泠印社甲辰秋季雅集系列活動(dòng)之大印學(xué)（3）——“篆刻學(xué)”學(xué)科建設(shè)與發(fā)展研討會(huì)在杭舉行。本次研討會(huì)，是西泠印社繼春季雅集期間舉辦紀(jì)念吳昌碩誕辰180周年學(xué)術(shù)報(bào)告會(huì)后，今年舉辦的又一場(chǎng)大型學(xué)術(shù)會(huì)議。研討會(huì)期間，眾多專家學(xué)者聚焦“篆刻學(xué)”學(xué)科建設(shè)與發(fā)展，圍繞五個(gè)專題，從不同角度和層面，進(jìn)行深入的分析和探討。（剩余333字）