Si3N4陶瓷基底的交替多層金剛石薄膜摩擦學(xué)性能

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摘要 為避免Si3N4材料因摩擦磨損造成的失效，利用熱絲化學(xué)氣相沉積技術(shù)在Si3N4基底表面沉積單層和交替多層的金剛石薄膜，采用X射線衍射儀、掃描電子顯微鏡、原子力顯微鏡和拉曼光譜儀對制備的金剛石薄膜的形核、薄膜質(zhì)量、表面和截面形貌、表面粗糙度等進行表征；利用“球?盤”往復(fù)式摩擦磨損實驗機測試金剛石薄膜的摩擦系數(shù)并計算其磨損率，分析不同結(jié)構(gòu)薄膜的摩擦磨損性能。（剩余17643字）